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氧化銦錫(英文全稱為Indium Tin Oxide，簡稱“ITO”)，由氧化銦和氧化錫粉末按照一定比例混合后，經過一系列的生產工藝加工成型，再高溫燒結形成的黑灰色陶瓷半導體材料。
氧化銦錫作為一種n型半導體材料，具有高的導電率、優異的可見光透過率、較強的機械硬度和良好的化學穩定性，主要用于制作液晶顯示器、平板顯示器、等離子顯示器、觸摸屏、電子紙、有機發光二極管、太陽能電池、抗靜電鍍膜、EMI屏蔽的透明傳導鍍、各種光學鍍膜等。
ITO靶材是濺射靶材中的一種，主要通過磁控濺射將ITO靶材氣化，濺鍍到玻璃基板或柔性有機薄膜上，制造成ITO薄膜，后者為透明導電氧化物薄膜，厚度一般為30-200納米。
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